超纯半导体级化学品（10%高纯氢氟酸）电子级单组分中 PPT 级超痕量重金属离子（如铜/铁/镍）ICP-MS 质谱多电荷基体干扰消除盘

原始需求记录（尚未验证其中的精度、预测和标准声明）： 实际用途： 在清洗液进厂化验检测中，修正由氩气等离子体流和样品中的高氟基体在质谱内部碰撞形成的虚假干扰峰（质荷比重叠）。 核心解决痛点： 比如高浓度的氩氟分子（ArF⁺）的质量数恰好和致命的金属铁-56重叠，如果不经过高阶数学方程将其分离开，会导致数据虚高几百倍，从而冤枉退货合格的高纯酸。工具在线提供干扰矩阵剥离算法。